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人民財訊9月4日電，9月4日，在第十三屆半導體設備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，中微公司宣布推出六款半導體設備新產品。這些設備覆蓋等離子體刻蝕（Etch）、原子層沉積（ALD）及外延（EPI）等關鍵工藝。在此次新品發布中，中微公司推出的12英寸原子層沉積產品Preforma Uniflash?金屬柵系列，成為薄膜沉積領域的一大亮點。該系列涵蓋三大產品，能夠滿足先進邏輯與先進存儲器件在金屬柵方面的應用需求。